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Sensore E+H di alta qualità CPS11E-AA7BAA2 per la pressione di processo da 0,8 a 17 bar

  • High Quality E+H Sensor CPS11E-AA7BAA2 for Process Pressure 0.8 to 17 bar
  • High Quality E+H Sensor CPS11E-AA7BAA2 for Process Pressure 0.8 to 17 bar
  • High Quality E+H Sensor CPS11E-AA7BAA2 for Process Pressure 0.8 to 17 bar
  • High Quality E+H Sensor CPS11E-AA7BAA2 for Process Pressure 0.8 to 17 bar
  • High Quality E+H Sensor CPS11E-AA7BAA2 for Process Pressure 0.8 to 17 bar
Place of Origin Germany
Marca E+H
Certificazione Original
Model Number CPS11E-AA7BAA2
Minimum Order Quantity 1
Prezzo USD$360/pc
Packaging Details Original
Delivery Time 3days
Payment Terms L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione 1000

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Dettagli
Brand E+H Garanzia 1 anno
Colore Blu Type CPS11E-AA7BAA2
Measurement range pH: 1 to 12 Principio di misurazione Elettrodo compatto del gel con la giunzione dell'anello di PTFE
Design Advanced gel technology Dimensione Diametro: 12 mm
Pressione trattata 0.8 a 17 bar
Evidenziare

Sensore E+H CPS11E-AA7BAA2

,

0.8 a 17 bar sensore E+H
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Descrizione di prodotto

  • IIoT ready: Memosens 2.0 offre un'ampia memorizzazione dei dati di taratura e di processo,consentire una migliore identificazione delle tendenze e fornire una base a prova di futuro per la manutenzione predittiva e i servizi IIoT migliorati.

  • Bassi costi operativi: la taratura in laboratorio e il rapido scambio di sensori nel processo riducono al minimo i tempi di fermo del processo e la durata del sensore.

  • Robusto e a bassa manutenzione

    Sensore di temperatura
    NTC 30K

    Protezione contro l'ingresso

    		 Protezione IP68

    Certificazioni aggiuntive

    		 Certificazioni aggiuntive

    elettrodo: un lungo percorso di diffusione del veleno o una trappola ionica ottimizzata impediscono l'avvelenamento dell'elettrodo di riferimento.

  • Il vetro di processo è adatto per l'intero intervallo di pH e è stabile alla pressione fino a 17 bar (246,5 psi) assoluti.Il vetro F facoltativo consente l'applicazione in supporti contenenti acido fluoridrico come i bagni di incisione nella produzione di semiconduttori.

  • Il miglioramento dell'immagazzinamento facoltativo di sale garantisce una misurazione affidabile in applicazioni a bassa conducibilità come l'acqua di alimentazione della caldaia.

  • Massima integrità del processo grazie alla trasmissione di segnali induttivi senza contatto.

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